Cl摻雜γ-CuI晶體生長及閃爍性能的研究
作者：張蕾; 劉小林; 郝書童; 顧牡; 李乾利; 黃世明; 張娟楠 同濟大學物理科學與工程學院; 上海市特殊人工微結(jié)構(gòu)材料與技術(shù)重點實驗室; 上海200092; 上海大學材料科學與工程學院; 上海200444
摘要：采用溶劑蒸發(fā)技術(shù),輔以氬保護氣氛,成功獲得厘米級氯摻雜γ-CuI透明單晶。研究了氯摻雜對晶體生長溶液的穩(wěn)定性、晶體結(jié)構(gòu)及發(fā)光性能的影響。通過引入氬氣氛,摻氯生長液及晶體的氧化問題得到了極大改善。X射線激發(fā)發(fā)射光譜表明,γ-CuI:Cl晶體的超快近帶邊發(fā)射得到顯著增強,光輸出約為PbWO4晶體的89%,深能級發(fā)射強度也受到極大抑制。并且快成分的衰減時間達到亞納秒量級。實驗結(jié)果均表明γ-CuI:Cl單晶具有較好的結(jié)晶性和光學性能,有望應用于超高輻射檢測和超快計數(shù)率成像領(lǐng)域。
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人工晶體學報雜志
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