微波ECR等離子體刻蝕AAO模板中HfO2薄膜的研究
作者：羅童; 陳強 北京印刷學(xué)院等離子體物理與材料實驗室; 北京102600
摘要：采用微波電子回旋共振(ECR)等離子體裝置,對用原子層沉積(ALD)方法在陽極氧化鋁模板(AAO)上制備的HfO2薄膜進行了納米圖案化研究。用CF4、Ar和O2等離子體,對HfO2薄膜進行了反應(yīng)離子束刻蝕,以移除HfO2。采用高分辨率掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)和能量色散X射線光譜顯微(EDX)分析,對樣品刻蝕前后的形貌、結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分進行了表征。實驗表明,HfO2的刻蝕具有定向性,利于高深寬比微機械結(jié)構(gòu)的加工。在其他參數(shù)固定的情況下,深寬比高達10∶1的結(jié)構(gòu)中HfO2的刻蝕速率是微波功率、負脈沖偏壓、CF4/Ar/O2混合比(Ar含量在0~100%)和工作氣壓的函數(shù)。在0.3Pa氣壓、600W微波功率、100V偏置電壓下,HfO2擁有0.36nm/min的可控刻蝕速率,利于HfO2的精準(zhǔn)圖案化?？涛g形貌表明,在CF4/Ar/O2等離子體刻蝕之后,刻蝕面非常光滑,具有0.17nm的均方根線粗糙度。
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真空與低溫雜志
真空與低溫雜志， 雙月刊，本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向，堅持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進性、創(chuàng)新性，刊載內(nèi)容涉及的欄目：薄膜技術(shù)、低溫技術(shù)、空間應(yīng)用等。于1982年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。
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